Wafer ແລະ Chip ອຸປະກອນກວດກາ

ໃນຂະບວນການຜະລິດ semiconductor ສະໄໝໃໝ່ ຄວາມແມ່ນຍຳຂອງການກວດກາເປັນຕົວກຳນົດທັງຄຸນນະພາບ, yield ແລະ ຄວາມສະໝ່ຳເສມຂອງສາຍການຜະລິດ. ສຳລັບງານ wafer ແລະ chip ນັ້ນ ອຸປະກອນກວດກາບໍ່ໄດ້ມີພາລະບົດພຽງແຕ່ການຄົ້ນຫາ defect ເທົ່ານັ້ນ ແຕ່ຍັງຊ່ວຍສ້າງຂໍ້ມູນສຳລັບວິເຄາະສາເຫດ, ປັບປຸງ process ແລະ ຫຼຸດຄວາມສ່ຽງກ່ອນເຂົ້າຂັ້ນຕອນຖັດໄປ.

Wafer ແລະ Chip ອຸປະກອນກວດກາ ໃນໜ້ານີ້ຖືກຄັດເລືອກສຳລັບງານກວດສອບຜິວໜ້າ, ການກວດຫາຄວາມຜິດປົກກະຕິ, ການວັດແທກ optical/metrology, ການຄວບຄຸມອຸນຫະພູມ ແລະ ການທົດສອບ ESD ໃນບໍລິບົດການຜະລິດລະດັບອຸດສາຫະກຳ. ເນື້ອຫາດ້ານລຸ່ມຈະຊ່ວຍໃຫ້ເຫັນພາບລວມຂອງກຸ່ມອຸປະກອນ, ວິທີເລືອກໃຫ້ເໝາະກັບ process ແລະ ຕົວຢ່າງໂຊລູຊັນທີ່ນຳໃຊ້ໄດ້ຈິງ.

ບົດບາດຂອງການກວດກາໃນງານ wafer ແລະ chip

ການກວດກາໃນງານ semiconductor ມັກກິນຄວາມກວ້າງກວ່າການກວດສາຍຕາທົ່ວໄປ. ຜູ້ໃຊ້ງານອາດຈະຕ້ອງກວດຫາ particles, scratches, contamination, discoloration, ຄວາມບິດເບືອນຂອງຜິວໜ້າ ຫຼື ຕຳແໜ່ງ defect ທີ່ຕ້ອງບັນທຶກເພື່ອນຳໄປ review ຕໍ່. ສຳລັບງານທີ່ຄວາມລະອຽດສູງ ລະບົບກວດກາຍັງຕ້ອງປະສານກັບ stage, camera, optics ແລະ software ໃຫ້ເຮັດວຽກສອດຄ່ອງກັນ.

ໃນຫຼາຍໂຮງງານ ການກວດກາ wafer ແລະ chip ຈະເຊື່ອມໂຍງກັບລະບົບທົດສອບອື່ນໆ ເຊັ່ນ ອຸປະກອນທົດສອບ IC Semiconductor ຫຼື ລະບົບວັດແທກໄຟຟ້າເພື່ອປິດວົງຈອນການຄວບຄຸມຄຸນນະພາບ. ແນວຄິດນີ້ຊ່ວຍໃຫ້ການຕັດສິນບໍ່ອີງແຕ່ຮູບພາບ ແຕ່ອີງທັງຂໍ້ມູນ process ແລະ ຜົນທົດສອບຈິງ.

ກຸ່ມອຸປະກອນທີ່ພົບໄດ້ໃນໝວດນີ້

ໝວດນີ້ຮອງຮັບງານກວດກາຫຼາຍລັກສະນະ. ບາງລະບົບເນັ້ນ macro inspection ເພື່ອກວດຫາ defect ຂະໜາດໃຫຍ່ ຫຼື ການປົນເປື້ອນໃນ wafer; ບາງລະບົບເນັ້ນ micro inspection ຫຼື 3D inspection ເພື່ອກວດລາຍລະອຽດທີ່ເລັກກວ່າ. ນອກຈາກນັ້ນຍັງມີກຸ່ມ optical metrology ທີ່ໃຊ້ວັດຄວາມສູງ, coplanarity ຫຼື ຄຸນລັກສະນະຜິວໜ້າ.

ອີກກຸ່ມໜຶ່ງທີ່ມັກຖືກມອງຂ້າມແຕ່ສຳຄັນຫຼາຍ ແມ່ນ ການຄວບຄຸມສະພາບແວດລ້ອມ ແລະ ອຸນຫະພູມ ເຊັ່ນ chiller ຫຼື ລະບົບໝຸນວຽນຄວາມເຢັນ. ສຳລັບບາງ process ການຄົງອຸນຫະພູມໃຫ້ສະໝ່ຳເສມມີຜົນໂດຍກົງຕໍ່ຄວາມນິ່ງຂອງການວັດແທກ, repeatability ແລະ ຄວາມເສຍຫາຍຂອງ sample ລະຫວ່າງທົດສອບ.

ຕົວຢ່າງລະບົບກວດກາເດັ່ນສຳລັບ wafer

ສຳລັບງານກວດກາຜິວໜ້າ wafer ໃນລະດັບອັດຕະໂນມັດ SPIROX ເປັນແບຣນທີ່ເຫັນໄດ້ຊັດໃນກຸ່ມນີ້. ຕົວຢ່າງເຊັ່ນ SPIROX MA6500 ອອກແບບມາສຳລັບງານ macro inspection ເພ